Influence of deposition time on the properties of chemical bath deposited manganese sulfide thin films
Date
2011-01-25Palabras Clave
Propiedades ópticas, Sulfuro de manganeso, Películas delgadas, Difracción de rayos-XOptical properties, Manganese sulfide, Thin films, X-ray diffraction
Metadata
Show full item recordAbstract
Películas delgadas de sulfuro de manganeso fueron depositadas químicamente a partir de soluciones acuosas que contenían sulfato de manganeso, tiosulfato de sodio y tartrato de sodio. Se investigó la influencia del tiempo de deposición (2, 3, 6 y 8 días) sobre las propiedades de las películas. La estructura y morfología de las películas fue estudiada empleando difracción de rayos X (DRX) y microscopía de fuerza atómica (MFA). Adicionalmente, a objeto de estudiar las propiedades ópticas de las películas se empleó la espectroscopia UV-visible. Los resultados de la DRX indicaron que las películas de MnS2 depositadas poseen una estructura cúbica policristalina. El número de picos observados en el patrón de la DRX se incrementa de tres a seis y luego disminuye a cinco, a medida que el tiempo de deposición aumentaba de 2 a 8 días. A partir de los estudios de MFA, se encontró que el grosor y la rugosidad de las películas de MnS2 dependen del tiempo de deposición.
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Información Adicional
Correo Electrónico | soonminho@yahoo.com |
ISBN | 1856-3201 |
Resumen en otro Idioma | Manganese sulfide thin films were chemically deposited from an aqueous solution containing manganese sulfate, sodium thiosulfate and sodium tartrate. The influence of deposition time (2, 3, 6 and 8 days) on the properties of thin films was investigated. The structure and surface morphology of the thin films were studied by X-ray diffraction and atomic force microscopy, respectively. In addition, in order to investigate the optical properties of the thin films, the UV-visible spectrophotometry was used. The XRD results indicated that the deposited MnS2 thin films exhibited a polycrystalline cubic structure. The number of MnS2 peaks on the XRD patterns initially increased from three to six peaks and then decreased to five peaks, as the deposition time was increased from 2 to 8 days. From the AFM measurements, the film thickness and surface roughness were found to be dependent on the deposition time. |
Colación | 141-145 |
Periodicidad | cuatrimestre |
Publicación Electrónica | Revista Avances en Química |
Sección | Revista Avances en Química: Artículos Científicos |